我国在光刻机研制方面是否有专业的研发机构或团队？答案是有的芯片加工其实是一个系统工程，其中光刻机的研制主要由各子系统及主系统集成几个方面组成，我国在2002年推出的“十五”规划中《国家科技16个重大专项》的（02专项）就是针对光刻机设备的研发
我国在光刻机研制方面是否有专业的研发机构或团队？
答案是有的芯片加工其实是一个系统工程，其中光刻机的研制主要由各子系统及《练：jí》主系统集成几(jǐ)个方面组成，我国在2002年推出的“十五”规划中《国家科技16个重大专项》的（02专项）就是针对光刻机设备的研发。并且为此专门组建了上海{hǎi}微电子装备有限公司(SMEE)作为研发主力，并且把中电科45所有关光科技研发的技术团队转移到了上海。
同时各主要的子系统部分也分别委托【练：tuō】国内相关领域的顶尖科研团队[繁体：隊]参与集体研发。
极紫外光刻机（EUV）的研制主力研发单位是中国科学院长春光学精世界杯密机械与物理（pinyin：lǐ）研究所（简称长春光机所）
光源部分：由哈尔滨工{拼音：gōng}业大学[xué]方面负责，最近消息DPP-EUV光源已经到{拼音：dào}了接近12* W的水平。
物镜部分：北京某单位已经研发成功对应的大口径光学镜面超精密加工机床，相【拼音：xiāng】关样机已经研制完(wán)成。
目前《读：qián》极紫外光刻机（EUV）样机已{拼音：yǐ}经（繁体：經）完成并通过了国家验收，预计两年内正式量产的样机即将问世。
（毕竟长春光机所很早就是我国专业研究光刻机的科研单位，而且也是军用卫星镜头的主要研究单位，光学实力还是有的，同时据说长春光机主导研发的军用光刻机已经达到了28MN的加工精度，光机所《读：suǒ》控股的奥普光电就是以军用芯片生产为主的企业，只不过军用光刻机因为成本[běn]问题无法在{拼音：zài}民用领域进行推广）
深紫外浸入式光刻机（开云体育DUV）由上海微电子{zi}负责总体研发，
其中超精密光栅系统来自中国科学院上海光学精密机械研究所（中科院下属专门皇冠体育从事激光专业的研究所，简称上光所[读：suǒ]）
光刻机物镜组来自北京国望光学。（主要科研团队来自于长春光机所旗下的长春国科精密光学技术有限公司，是我国唯一一家超精密光学系统产业[繁体：業]化技术研发单位，并【练：bìng】且已经与长春光机所和上海光机(jī)所达成了战略投资。）
光源来自科益虹源。（是由亦庄国投、中国科学院光电院及微电(diàn)子所、国科控股等共同出资设立，是具备专业高《练：gāo》端准分子激光技术研究和产品化能力的企业）
浸液系统来自浙江启尔机电。（公司前身是浙江大学澳门永利流体动力与机电系统国家重点实验室启尔团队，团队先后承担国家863计划和国家02科技重大专项等科研项目30余项。公司专注于光刻机浸没系统及其衍生产品的研发，在流体（繁体：體）精密测控、（泛）半导体制造以及超纯工艺等方面拥有丰富的技术经验）。
双工件台来自华卓精科。（由清华IC装备团队在清华大学及其下属“北京-清华工业技术研究院”和02专项的支持下创立，是一家肩负着专项重大科研成果产业化重任的高新技术企业。华卓精科主要从事半导体制造装备及其关键零[líng]部件研发、设计[繁体：計]、生产、销售与技术服务。）
上海微电子将于今年（2020年）12月下线首台采用ArF光源的可生产11纳米的SSA800直播吧/10W光刻机(单次曝光28nm节点浸没光刻机)，采用NA1.35透镜组，并搭载超精密磁悬浮双工件台和[hé]超纯水浸入系统。同时采用华卓精科工作台的套刻精度指标优于1.7纳米。该光刻机有生产7nm制程的潜力（多次曝光）。
可以看出，上面所列的科研机构和企业基本大都是基于02专项发展而来，可以说是集聚了我国各行业的顶尖科研实力，国家在很多年前就已经开始发力攻克光刻机的难关，相信在不远的未来国产光刻机一定能够成为我国的芯片行业的有力支撑。
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