光刻机是芯片制造的关键,现在中国有哪些企业在研究光刻机?目前国内研究光刻机的企业不少,因为光刻机实在太重要了。由于光刻的工艺水平直接决定芯片的制程水平和性能水平,光刻成为 IC 制造中最复杂、最关键的工艺步骤, 光刻的核心设备——光刻机更是被誉为半导体工业皇冠上的明珠
光刻机是芯片制造的关键,现在中国有哪些企业在研究光刻机?
目前国内研究光刻机的企业不少,因为光刻机实在太重要了。由于光刻的工艺水平直接决定芯片的制程水平和性能水平,光刻成为 IC 制造中最复杂、最关键的(拼音:de)工艺步骤, 光刻的核心设备——光刻机更是被誉为半(bàn)导体工业皇冠上的明珠。目前最先进的是第五代 EUV光刻机,采用极紫外光,可将最小工艺节点推进至 7nm。由荷兰 ASML制造。
国内光【pinyin:guāng】刻机技术比较先进,已经量产的应该是上海微电子装备有限责任(rèn)公{pinyin:gōng}司(简称SMEE#29,已经实现90nm的量产,目前正在研究65nm的工艺。
其他的包括 合肥芯硕半导体有限公司、先腾光电科技有限公司【读:sī】、澳门新葡京无锡影速半导体科技有限公司等一些企业,在光刻机上衣和有自己的成果。
但这些光刻机企业,目前还是在原来的道路上一步一步往前走,相信只要努力,未来也能达到很高的【拼音:de】水平。但对于光(guāng)刻机行业来说,他们的追赶速度虽然很快,但技术进步的速度也是很快。所以,他们只能持续在低端方面,占有一定的市场份额。
如【读:rú】果要进入高端市(shì)场,目前国内最先进的光刻机技术,应该是中科院光电技术研究所的技术成【练:chéng】果。
2018年11月29日,新华社报道称,国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装《繁:开云体育裝》备研制”29日通过验收。据悉,该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制,光刻分辨力达到22纳米,结合双重曝光技术后,未来还可用于制造10纳米级别的芯片。
也就【拼音:jiù】是中国科学院光【读:guāng】电技术研究所的这个成果,直接将中国光刻机技术向前推进好几代。
当然,这个科研成果,距离完整实现量产,还有好几个关卡要过(繁体:過)。
首先是光刻分辨力{练:lì}达到22纳米只是一皇冠体育次极限测试,属于单次曝光,还制造不了芯片。
其次是,能够实验室制澳门新葡京造芯片,还要{yào}实现量产,这又是一个关卡。
但总的来说,已经有了“光刻分辨力达到(拼音:dào)22纳米”,那么距离成型【练:xíng】机,已经(繁:經)没有那么遥远了。
更重要的是,目前的紫外线光刻技术,在7nm的芯澳门新葡京片出来之后,已经需要一个新的工艺突破。就像当年从液浸{jìn}式到 EUV的技术飞跃一般。
而中科院这个项目,走了另外一条道路。拿一块金属片和非金属片亲密接触,界面上有一些乱蹦的电子光投影在金属上,这些电子就有序地震荡,产生波长几十纳米的电磁波,可用来光刻。这叫表面等离子体光刻。
这条道路的优势是未来的成本可以低于目前主流的技术[繁体:術],极限可能高于未来的主流技术,在原理上突破分辨力衍射极限,建立了一条高分辨、大(dà)面积的纳米光刻{pinyin:kè}装备研发新路线,绕过国外相关知识产权壁垒。
也就是,中科院光电技术研究所的这条技术(繁:術)路径,是非常有价值的一次技术突破,或者技术发现。有可能让中国的光刻机实现弯道【练:dào】超车,而不是在现在主流的工艺道(拼音:dào)路上亦步亦趋。
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