高密度等离子体化学气相淀积 请问CVD（化学气相沉积）的原理(lǐ)及应用？

请问CVD（化学气相沉积）的原理及应用？化学气相沉积是一种化工技术，该技术主要是利用含有薄膜元素的一种或几种气相化合物或单质、在衬底表面上进行化学反应生成薄膜的方法。化学气相淀积是近几十年发展起来的制备无机材料的新技术

请问CVD（化学气相沉积）的原理及应用？

原（拼音：yuán）理

化学气相沉积技术是应用气态物质在固体上阐述化[pinyin：huà]学反澳门永利应并产生固态沉积物的一种工艺，它大致包含三步：

（1）形澳门巴黎人成挥发[fā]性物质 ；

（2）把上述(读：shù)物质转移至沉积区域 ；

（3）在固体上产生化学反应并产生[拼音：shēng]固态物质 。

最基本的化学气相沉（读：chén）澳门金沙积反应包括热分解反应、化学合成反应以及化学传输反应等集中。 [1]

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1）在中温（繁：溫）或高温下，通过气态的初始化合{pinyin：hé}物之间的气相化[读：huà]学反应而形成固体物质沉积在基体上。

2）可以在常压或者真空条件下[读：xià]#28负压“进行沉积、通《读：tōng》常真空沉积膜层质量较好[练：hǎo]）。

3）采用等离子和{hé}激光辅助技[读：jì]术可以显著地促进化学反应，使沉积可在较低的温度下进行《读：xíng》。

4）涂层的化学成分可以随气相组成的改变而变化，从而获得梯度沉积物或者得到混合镀层。

5）可以控制涂层的密度[读：dù]和涂层纯度。

6）绕镀件好。可在复杂形状的基体上[读：shàng]以及颗粒材料上镀膜。适合涂(繁体：塗)覆各《gè》种复杂形状的工件。由于它的绕镀性能好，所以可涂覆带有槽、沟、孔，甚至是盲孔的工件。

7）沉积层通常具有柱状晶体结构，不[读：bù]耐弯曲，但可澳门新葡京通过各种技术对化学反应进行气相扰动，以改善其结构。

8）可以通过各种反应形成多种金属、合金、陶《pinyin：táo》瓷和化合物涂层。

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