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上海有哪些电子科技公司？
上海秀派电子科技股份有限公司，上海卡硕电子科技股份有限公司，上海育港电子科技股份有限公司上海科技大学与一般985、211大学比，哪个好？
＃原创＃
上科大(练：dà)先天优势明显
首先由中国科学院与上海市政府携手举办《繁体：辦》的大学。
不(读：bù)缺大师、院士
教授还有数百(拼直播吧音：bǎi)位
师（读：shī）资力量之雄厚
很少有学《繁：學》校能极速赛车/北京赛车与之比肩
经[皇冠体育繁体：經]费充裕
设【练：shè】备设施齐全
理论与实践充分结合
专业与现代[dài澳门新葡京]科学的发展高度融合
教(拼音：jiào)学教育中
创新【拼音：xīn】意识浓烈
学生知识【pinyin：shí】扎实
视野开{练：kāi}阔
国(拼亚博体育音：guó)际交流丰富
招收的学生质量(练：liàng)高
学[繁体：學]习与科研的氛围炽热
是学生成chéng 长成才的热土
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声名{读：míng}鹊起
信誉极[繁：極]佳
故[pinyin：gù]，一般985、211学校只能望其项背。
＃凌《繁：淩》远长著＃
传上海微电子研发出11nm光刻机，请问是真的吗？有谁知道？
据报道称:上海微电子将在2021年交付采用ARF光源制程工艺为28纳米的光刻机，并且次光刻机在经过多次曝光之后，可以制造出11纳米制程的芯片。目前来看，这个消息应该是真的。也就是说，国内在2021年，就有自己制造的生产28纳米制程芯片的光刻机了。虽说，还不能与阿斯麦公司的极紫外EUV光刻机相比，但是足以推进我国工业芯片和军用芯片的性能向前迈一大步了。按光源来分的话，光刻【拼音：kè】机已经发展了五代。第一代是采用波长为436纳米的g-line光源的光刻机，其制程工艺节点为800纳米-250纳米；第二代采用波长为365纳米的i-line光源的光刻机，其制程工艺节点也是800纳米-250纳米；第三代采用波长为248纳{繁：納}米的KRF光源的光刻机，其制程工艺节点为180纳米-130纳米；第四代也就是波长为139纳米的Arf光源的光刻机，其制程工艺节点为130纳米-65纳米，45纳米-22纳米；第五代也就是波长为13.5纳米的EUV光源的极紫外光刻机，其制程节点为22纳米-7纳米。
而上海微电子将在2021年交付的也就是第四《sì》代光刻机，制程工艺节点为28纳米。其实上海微电子与2007年制造了制程工艺节点为90纳米的光刻机，迄今过【练：guò】去了13年。经过14年的发展，再次拿出第四代光刻机也是很正常的。虽说，我国现在无法制造出二氧化碳EUV光源，但是在固体深紫外光源的研发上是处于国际领先地位的，最明显的例（pinyin：lì）子就是KBBF晶体。
另外（wài）光刻机比较重要的镜头，国内也是可以自制的。长春光机所于2016年研发出了波像差优于0.75 nm RMS 的两镜EUV 光刻物镜系统。清华大学也在2014年研发出掩模台/硅片台同步扫描指标实测达到2.2nm，4.7nm。所以说，光刻机最重要掩膜台和工作台，镜头组，光源都可kě 以由国[繁体：國]内单位自己制造出来，那么上海微电子研制出制程工艺为28纳米的光刻机也没有什么（繁体：麼）可怀疑的。只是在明年交付之后，芯片的良品率并不会一下子就上去，还要过段时间才可以提升上去
另外，上海微电子即将交付的光刻机，在经过多次曝光之后，制程工艺还可以提高到11纳米。这样一来，对那些芯片并不急需，但要求制程工艺{繁：藝}的公司来说，也是一个好消息。毕竟国(繁：國)内有了这种光刻机，就不必在受到国外的制裁了。对于EUV光源，我《wǒ》国（繁体：國）还需要加大研发力度，争取早日取得突破。只要光源突破之后，那剩下的就没有什么太大的难题了
由此【拼音：cǐ】可知，上海微电子交付28纳米制程工艺的光刻机有较大意义。
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